最高人民法院就集成电路布图设计首次商用超两年抗辩作出二审判决
最高人民法院知识产权法庭对(2025)最高法知民终452号集成电路布图设计侵权纠纷案作出二审判决,认定被诉侵权人主张涉案布图设计不符合法定条件时,即使未提起撤销程序,法院也可依法审查其权利基础。本案证据显示涉案布图设计申请登记时间超过首次商业利用时间两年以上,不符合《集成电路布图设计保护条例》第十七条规定的登记条件,人民法院不予保护。
推荐理由:最高法明确在布图设计侵权案中,即便未启动撤销程序,法院也可直接审查登记条件并拒绝保护超期登记的布图设计。