最高法明确布图设计超两年商用抗辩审查规则

最高人民法院知识产权法庭就（2025）最高法知民终452号集成电路布图设计侵权纠纷案作出二审判决。该案核心争议在于被诉侵权人主张涉案布图设计不符合法定登记条件时，法院是否需以撤销程序为前提进行审查。最高法认定，即使未提起撤销程序，法院也可依法审查其权利基础。根据案件证据，涉案布图设计的申请登记时间超过首次商业利用时间两年以上，违反了《集成电路布图设计保护条例》第十七条关于登记条件的规定。因此，法院判定该布图设计不予保护。这一判决明确了在集成电路布图设计侵权诉讼中，对于“首次商用超两年”这一关键合规性要件，司法机关可直接依职权或依申请进行实质审查，无需等待行政撤销结果，强化了权利基础的司法把关作用。

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